岗位职责：
1.研究介质薄膜（氧化硅、氮化硅等）与金属薄膜（钼、氮化钛、钨等）在湿法刻蚀中的反应路径与动力学，建立刻蚀速率与工艺参数（浓度、温度、流量）的定量关系模型，实现刻蚀精确控制；
2.揭示晶圆面内及片间刻蚀均一性的主导机理，优化流体场与化学场分布，提升全局均匀性；
3.研究湿法原子层刻蚀（ALE）的循环反应路径，实现原子级精度的逐层去除与选择性调控；
4.解析刻蚀过程中的关键化学反应动力学与副产物生成机制，为刻蚀液配方优化提供理论支撑；
5.结合CFD/反应动力学仿真工具模拟刻蚀槽流场与浓度分布，优化均一性及副产物控制，辅助ALE工艺验证与硬件优化。

任职要求：
1.博士学历，化学、材料、化工、集成电路、物理化学、表面化学等相关专业；
2.具有介质/金属薄膜湿法刻蚀的机理研究经验，熟悉常用刻蚀液（酸/碱/有机）与薄膜反应行为；
3.掌握刻蚀过程表征技术（如椭偏仪、QCM、ICP-MS、电化学工作站等），能独立设计实验并解析动力学数据；
4.熟悉表面化学反应动力学及界面科学基础知识，有原子层刻蚀（ALE）研究经历者优先；
5.有湿法刻蚀工艺仿真经验（CFD/反应动力学工具，如COMSOL、Fluent等）或高深宽比结构均匀性控制研究者优先。