任职要求：
1、工艺开发与优化： 负责纳米压印光刻（NIL）全流程工艺开发与优化，包括模板清洗与处理、基材预处理、压印胶涂覆、纳米压印、脱模、图形转移（RIE/镀膜）等关键步骤；
2、技术难题攻关： 分析并解决工艺中出现的缺陷问题（如填充不完全、粘附、脱模损伤、残留层不均等），提升压印良率、分辨率和重复性；
3、设备操作与维护： 熟练操作和维护纳米压印机（热压印/UV压印）、匀胶机、等离子清洗机、反应离子刻蚀机、轮廓仪、SEM/AFM等关键设备，制定设备操作规范；
4、材料评估与选型： 负责压印胶、抗粘层、模板材料等关键材料的测试，评估与选型，与供应商进行技术对接；
5、模板管理与设计协同： 负责纳米压印模板的接收、检验、使用和维护，与设计团队协作，将版图设计转化为可制造的工艺方案；
6、文档与知识沉淀： 撰写详细的工艺指导书，标准操作程序和实验报告，建立和完善工艺数据库；
7、团队协作： 与产品、设计、检测、设备工程师紧密合作，推动新产品从研发到量产的顺利导入。
岗位职责：
1、本科及以上学历，微电子、光学工程、材料科学、物理化学、精密仪器、机械工程等相关专业；
2、设备能力： 熟练掌握至少一种主流纳米压印设备操作，并具备相关量测/分析设备经验；
3、分析能力： 能够独立设计实验（DOE），利用SEM、AFM、光学显微镜等工具进行数据分析和根因分析；
4、具备强烈的责任心，严谨细致的工作态度和出色的动手能力；
具备优秀的逻辑思维，分析问题和解决问题的能力；具有良好的团队协作精神和沟通能力。